- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/115 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des supports ou couches ayant des moyens pour obtenir un effet de réseau ou pour augmenter le contact dans le tirage sous vide
Détention brevets de la classe G03F 7/115
Brevets de cette classe: 7
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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LG Chem, Ltd. | 17205 |
1 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
1 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
1 |
Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2429 |
1 |
The Australian National University | 184 |
1 |
Planxwell Ltd. | 3 |
1 |
MacDermid Graphics Solutions, LLC | 125 |
1 |
Autres propriétaires | 0 |